La 345 Relief Cream Mask traslada la fórmula de la línea 345 Relief a una mascarilla de celulosa vegana de alta adherencia con esencia cremosa. Combina 3 ingredientes para imperfecciones, 4 nutritivos y 5 calmantes: 30% agua de hoja de árbol de té (Melaleuca Alternifolia Leaf Water, distinta del aceite esencial), niacinamida, tres derivados de centella asiática (agua de hoja, extracto y madecassoside), pantenol, ácido hialurónico, ceramida NP y colesterol. Suma resveratrol, beta-glucano y PDRN de loto. Calma rápidamente la piel irritada, acompaña la recuperación post-acné y deja una hidratación confortable.
Tipo de piel: todo tipo de piel, especialmente mixta, grasa con imperfecciones o sensibilizada.
Paso de la rutina: mascarilla, después del tónico y antes del sérum/crema (2 a 3 veces por semana o tras un brote).
Contenido: 1 unidad (25 g).
Solo para uso externo. Evitar el contacto con los ojos; en caso de contacto, enjuagar con abundante agua. Si aparece enrojecimiento, picazón o irritación, suspender el uso y consultar a un dermatólogo. Mantener fuera del alcance de los niños. Conservar en lugar fresco y seco, lejos de la luz solar directa. Producto de un solo uso: no reutilizar la lámina una vez abierta. No aplicar sobre heridas abiertas o piel lesionada.
Water, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Glycine Soja (Soybean) Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract.
